普蘭德化學真空系統(tǒng) MD 4C NT+AK+EK

產(chǎn)品時間：2019-12-23

簡要描述：

普蘭德化學真空系統(tǒng) MD 4C NT+AK+EK廣泛應用于化學、生物和制藥實驗室的排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過程。系統(tǒng)可很好地滿足高沸點溶劑的真空需求。主要用于和旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀或真空干燥箱等儀器連用。

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詳細介紹

普蘭德化學真空系統(tǒng) MD 4C NT+AK+EK簡介：

MD 4C NT +AK+EK化學真空系統(tǒng)廣泛應用于化學、生物和制藥實驗室的排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過程。系統(tǒng)可很好地滿足高沸點溶劑的真空需求。主要用于和旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀或真空干燥箱等儀器連用。進氣口收集瓶（AK）為玻璃材質(zhì)，外覆保護膜，可以防止顆?；蛞旱芜M入泵內(nèi)。出氣口的廢氣冷凝器（EK）效率高，結(jié)構緊湊。該冷凝器可實現(xiàn)*的溶劑回收效果，可有效地循環(huán)利用溶劑，同時主動地保護環(huán)境。

普蘭德化學真空系統(tǒng) MD 4C NT+AK+EK性能特性：

1、的化學耐腐蝕性和蒸汽耐受性

2、在較高真空度下仍具有非常好的性能

3、使用氣鎮(zhèn)仍能達到很好的極限真空

4、排氣安靜，振動極低

5、高效的溶劑回收系統(tǒng)，使其成為一款環(huán)境友好的產(chǎn)品

化學真空系統(tǒng)MD 4C NT +AK+EK技術指標：

技術指標	單位	MD 4C NT +AK+EK
泵頭數(shù)/級數(shù)		4 / 3
50/60 Hz下的大抽速	m3/h	3.4 / 3.8
50/60 Hz下的大抽速	cfm	2.0 / 2.2
極限真空（絕壓）	mbar/torr	1.5 / 1.1
極限真空（絕壓），使用氣鎮(zhèn)	mbar/torr	3 / 2.2
環(huán)境溫度范圍（操作）	°C	10 - 40
環(huán)境溫度范圍（儲存）	°C	-10 - 60
大出氣口壓力（絕壓）	bar	1.1
進氣口接口		軟管噴嘴接頭 DN 8-10 mm
出氣口接口		軟管噴嘴接頭 DN 8-10 mm
冷卻液接口		2個 DN 6-8 mm 軟管噴嘴接頭
額定電機功率	kW	0.25
50/60 Hz下的額定轉(zhuǎn)速	min-1	1500/1800
防護等級		IP 40
尺寸（長x寬x高）	mm	326 x 243 x 402
重量	kg	17.3
噪音水平在50赫茲，典型值	dBA	45
NRTL 標準		加拿大和美國
ATEX 認證 (僅限230V)		II 3G IIC T3 X Internal Atm. only
貨品配置		真空系統(tǒng)安裝完畢，連接即可使用，附帶說明書
可選附件		真空橡膠管 DN 8 mm (686001) 升級套件與閥（699906）